西安·未央区
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详细查看工作内容：
晶圆研发：
1. 根据MOSFET器件的设计指标（如阈值电压、导通电阻、开关速度等），协同代工厂制定或优化工艺方案（如工艺节点选取、掺杂浓度调节、栅极材料设定），确保设计需求与代工厂工艺能力（如光刻精度、蚀刻均匀性）相匹配，解决工艺适配中的技术难题；
2. 针对Wafer制造过程中出现的异常情况（如参数波动、良率下降、可靠性失效），识别并定位工艺环节中的根本原因（如光刻偏移、刻蚀残留、热预算偏差等），提出优化措施（如调整退火温度、优化离子注入剂量），并通过DOE（实验设计）验证改进效果；
3. 与设计团队紧密配合，综合考量性能、功耗与可靠性目标（如优化栅氧厚度、源漏结构设计），实现最优权衡；
4. 制定适用于量产阶段的工艺验收标准（如参数分布区间、失效判定阈值）；
5. 建立并持续维护各代工厂及各技术平台的工艺数据体系。
部门建设：
1. 负责新进员工的技术培训与能力提升，推动员工技能拓展，完善培训资料并持续优化；
2. 参与部门流程制度的搭建、修订与优化，并监督执行落地；
3. 推进部门输出文档的标准化建设，提升文件统一性与规范性。
其他方面：
1. 协同参与研发数据库系统的构建；
2. 针对研发项目中的技术创新点，完成专利撰写与知识产权保护工作。
详细查看任职要求：
具备5年以上半导体Fab PIE工作经验，有功率器件（如MOSFET、IGBT）制造背景者优先。
精通光罩技术：
深入理解光罩设计规则、材料选型、制作工艺及质量管控标准，熟悉其对功率器件关键电性参数（Vth, Ron, BVdss, Qg, 可靠性）及良率的影响机理。
掌握光刻核心工艺：
熟练掌握光刻流程（尤其是与光罩应用相关的关键环节，如成像质量、OPC效应）以及刻蚀工艺（干法/湿法），理解其在器件结构成型与电学性能决定中的关键作用。
突出的问题分析与解决能力：
能够独立应对由光罩、光刻或刻蚀引发的制程异常及器件性能/良率问题，善于运用系统化方法（如8D、DOE）开展根因分析并制定有效的纠正与预防措施。
良好的沟通协作素质：
可高效对接光刻模块、刻蚀模块、整合工程师、器件设计团队及外部光罩供应商，保障跨团队协作顺畅。
晶圆研发：
1. 根据MOSFET器件的设计指标（如阈值电压、导通电阻、开关速度等），协同代工厂制定或优化工艺方案（如工艺节点选取、掺杂浓度调节、栅极材料设定），确保设计需求与代工厂工艺能力（如光刻精度、蚀刻均匀性）相匹配，解决工艺适配中的技术难题；
2. 针对Wafer制造过程中出现的异常情况（如参数波动、良率下降、可靠性失效），识别并定位工艺环节中的根本原因（如光刻偏移、刻蚀残留、热预算偏差等），提出优化措施（如调整退火温度、优化离子注入剂量），并通过DOE（实验设计）验证改进效果；
3. 与设计团队紧密配合，综合考量性能、功耗与可靠性目标（如优化栅氧厚度、源漏结构设计），实现最优权衡；
4. 制定适用于量产阶段的工艺验收标准（如参数分布区间、失效判定阈值）；
5. 建立并持续维护各代工厂及各技术平台的工艺数据体系。
部门建设：
1. 负责新进员工的技术培训与能力提升，推动员工技能拓展，完善培训资料并持续优化；
2. 参与部门流程制度的搭建、修订与优化，并监督执行落地；
3. 推进部门输出文档的标准化建设，提升文件统一性与规范性。
其他方面：
1. 协同参与研发数据库系统的构建；
2. 针对研发项目中的技术创新点，完成专利撰写与知识产权保护工作。
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具备5年以上半导体Fab PIE工作经验，有功率器件（如MOSFET、IGBT）制造背景者优先。
精通光罩技术：
深入理解光罩设计规则、材料选型、制作工艺及质量管控标准，熟悉其对功率器件关键电性参数（Vth, Ron, BVdss, Qg, 可靠性）及良率的影响机理。
掌握光刻核心工艺：
熟练掌握光刻流程（尤其是与光罩应用相关的关键环节，如成像质量、OPC效应）以及刻蚀工艺（干法/湿法），理解其在器件结构成型与电学性能决定中的关键作用。
突出的问题分析与解决能力：
能够独立应对由光罩、光刻或刻蚀引发的制程异常及器件性能/良率问题，善于运用系统化方法（如8D、DOE）开展根因分析并制定有效的纠正与预防措施。
良好的沟通协作素质：
可高效对接光刻模块、刻蚀模块、整合工程师、器件设计团队及外部光罩供应商，保障跨团队协作顺畅。
2026-05-25 14:44
IP属地：陕西西安
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本科3-5年元器件MOSFET晶圆设计研发封装AutoCADSolidWorksPATHONWAFER制造工艺
华羿微电子股份有限公司
A轮 · 1000-9999人
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鱼泡安全保障
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